Excimerová žárovka 172 Nm pro průmyslové použití

FUNKCE

1. Jedna vlnová délka, koncentrovaný ultrafialový výstup

2. Ne-koherentní světlo, může pokrýt velkou plochu

3. Žádná koroze elektrody, dlouhá životnost

4. Můžete kdykoli zapnout a vypnout, není třeba předehřívat

5. Zapnutí a provoz není ovlivněn okolní teplotou

6. Zdroj studeného světla, nevytváří infračervený výstup, žádný zřejmý tepelný efekt na zpracovávaný objekt

7. Šetrné k životnímu prostředí, bez rtuti

SPECIFIKACE

1. Číslo modelu: UWB172-150W

2. Špičková vlnová délka: 172nm

3. Velikost: 55600mm

4. Vstupní napětí: 220vAC

5. Výkon: 150w

6. Úhel paprsku: 100 stupňů

7. Radiation Intensity: 10mw/cm²(0cm)

8. Rozsah provozních teplot: -10 stupňů - 150 stupňů

9. Životnost: 4000 hodin

APLIKACE

Čištění povrchů. Lze jej použít k čištění waferů a plochých displejů, odstranění fotorezistu

Povrchové leptání a modifikace, jako jsou polyimid, fluorové materiály atd.

Fotochemická depozice z par při nízké teplotě (foto{0}}CVD). Například elektronický film TA2O5, HFO2 atd.

Oxidace, lehké žíhání. zlepšit chemometrii SiO₂elektronický film

Katalytická metalizace při pokojové teplotě. k plátování kovové elektrody v plastovém povrchu

Aktivace povrchu pro zvýšení povrchového napětí a vlhkosti

Organická degradace. odstranění organického uhlíku za vzniku ultračisté vody, rozklad zbytků pesticidů a fotochemické odbarvování odpadních vod z tisku a barvení

Generuje vysoce čistý ozón

Výhoda 172 nm excimerového zdroje světla v oblasti povrchových modifikací

Technologie povrchové úpravy se používá v mnoha průmyslových oblastech. Ve srovnání s běžnými metodami je modifikace materiálu pomocí excimerových lamp považována za přesnou modifikaci, protože probíhá chemickou reakcí na molekulární nebo atomové úrovni.

Jedná se o čistou úpravu, která neovlivňuje materiál a nevytváří žádné prachové částice a je považována za účinnou v oblastech, kde jsou vyžadovány sofistikovanější úrovně úpravy materiálu.

Vacuum UV light, at a wavelength of 172 nm, is produced by an excimer lamp. The 172 nm radiation is significantly absorbed by oxygen so that active oxygen of high concentration can be produced. Vacuum UV light can even break organic matter's molecular bonds, which helps it to provide advantages in many processes such as enhancing the cleaning quality, expediting the cleaning speed, and boosting the product yield.

Mikrofluidní zařízení se nyní používají v mnoha různých oblastech, včetně biologických a lékařských aplikací. Použití technologie lepení v takových zařízeních s jemnou strukturou vyžaduje metody lepení s vyšším stupněm kvality a přesnosti. Lepení, které využívá excimerové lampy, nevyžaduje žádné lepidlo a nezpůsobuje žádnou tepelnou deformaci a poškození, takže je vhodné pro lepení mikrofluidních zařízení.

Při technikách koronového výboje a plazmatu je cílový objekt vystaven přímo výboji a může dojít k jeho poškození. Při použití excimerové lampy je však předmět jednoduše ozářen vakuovým UV světlem a nedochází k žádnému poškození.

V technikách koronového výboje a plazmy mohou prachové částice produkované rozstřikováním elektrod létat vzhůru proudem vzduchu a ulpívat na povrchu cílového objektu. Tyto problémy jsou řešeny pomocí techniky excimerové lampy (172 nm excimerová lampa pro průmyslové použití), která zajišťuje čisté zpracování. Na rozdíl od koronového výboje a jiných plazmových technik, které využívají výboj, technika excimerové lampy využívající světlo nezpůsobuje nepravidelné ozařování a dosahuje rovnoměrného a účinného zpracování na velké ploše.

Populární Tagy: 172 nm excimerová lampa světelná trubice pro průmyslové použití, Čína, dodavatelé, výrobci, továrna, přizpůsobená, velkoobchod, hromadné, ceník, skladem, na prodej